真空蒸餾
精鉍中還含有的微量雜質(zhì)，可分為易揮發(fā)性雜質(zhì)與難揮發(fā)性雜質(zhì)兩類(lèi)。易揮發(fā)性雜質(zhì)可用真空加熱法除去，難揮發(fā)性雜質(zhì)可用真空蒸餾法除去。
真空過(guò)濾在垂直石英管內(nèi)進(jìn)行，在真空度為0.1333帕下，溫度1000℃時(shí)加熱4小時(shí)，使熔融金屬在真空下通過(guò)2毫米窄孔，以除去表面的氧化膜，真空過(guò)濾后，可除去精鉍中的銻。
經(jīng)真空過(guò)濾的鉍裝在石英管內(nèi)，溫度控制在950～1050℃，真空度保持0.1333帕，進(jìn)行真空蒸餾，在上述條件下鉍的蒸氣壓為106.7～399.97帕，鉍的蒸發(fā)率達(dá)85%，蒸餾時(shí)間2～6小肘。通過(guò)真空蒸餾，蒸餾殘?jiān)懈患随�、鉬，銀、銅、錳等雜質(zhì)，餾出物即為五九商純鉍，可用于半導(dǎo)體工業(yè)。
由于鉛與鉍的飽和蒸氣壓較接近，所以甩蒸餾法不能滿足除鉛要求。但是氯化鉛的自由焓較氯化鉍的自由焓更負(fù)，即鉛的氯化物比鉍的氯化物更穩(wěn)定，所以常先采用氯化法除鉛，再用真空蒸餾除去銀等難揮發(fā)雜質(zhì)。
降低熔融鉍中氯化物的含量可采用氨氣沖洗法，或采用氯化物真空蒸餾，將真空度控制在0.6666帕，溫度650℃，此時(shí)BiCl3與PbCl2優(yōu)先蒸發(fā)，而與金屬鉍分離。
